EFRE

Ultra-Hochvakuum Molekularstrahlepitaxie-Anlage

Die Untersuchung der Oxid-Nitrid-Schichtstrukturen ist gegenwärtig von großer Bedeutung, da diese ein enormes Potential für ein neue Generation von energieeffizienteren Nano-Bauelementen aufweisen.  In den sogenannten Spintronik-Nanobauelementen wird die Information nicht über Ladungströme (Elektronen), sondern über Spin-Ströme vermittelt, die keinen Energieverlust durch den elektrischen Widerstand zeigen. An den Grenzflächen zwischen Oxid- und Nitrid-Schichten entstehen eine Vielfalt an physikalische Wechselwirkungen, die z.B. zu nicht-kollineare oder topologische Spinstrukturen führen. Diese Strukturen sind als Quelle von Spin-Strömen besonders geeignet. Oxid- und Nitridschichten und deren Kombinationen sind daher Schlüsselkomponenten für Innovationen auf dem Gebiet der Nanobaseelemente und der Informationstechnologie.

Dank der EFRE-Unterstützung wird die NISE-Abteilung des Max-Planck-Instituts für Mikrostrukturphysik eine Ultra-Hochvakuum-Molekularstrahl-Epitaxie-Anlage erwerben, die für das Wachstum und die Untersuchung von Oxid- und Nitrid-Dünnschichtfilmen entwickelt wurde. Die Kombination dieser Materialien bietet neue Erkenntnisse nicht nur für die Grundlagenforschung, sondern auch für innovative Anwendungen. Mit dieser Anlage entwickeln wir innovative Werkstoffe und neuartige Komponenten für Spintronikgeräte.

Die Schnittstelle zum Technologietransfer wird durch unseren Partner Fraunhofer IMWS Halle gestärkt.

 
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